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주식 투자 이야기/HOT ISSUE

[HOT ISSUE] 에프에스티 에스앤에스텍 EUV 노광 장비 펠리클 국산화 머지않았나!? SPIE와 SMC를 통해 바라보는 소부장 관련주 대장주

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안녕하세요.

또바기쓰입니다.

 

오늘은 제가 가장 기대하고 있는 반도체 기업 중 하나인 "에프에스티"에 대해 다루어보고자 합니다.

9월말 그리고 10월 중순 EUV 기술에 대한 주요한 행사들이 연달아 있는데요. 이 부분에 대한 초안 일부가 공개됐는데 개인적으로는 굉장히 고무적인 내용으로 해석하고 있습니다.

 

뿡
에프에스티의 EUV 펠리클 개발

대부분의 행사는 진행중이거나 끝났지만 언론에 실제 관련 내용은 거의 보도되고 있지 않습니다. 그 이유는 유료 멤버쉽 가입자들만 참여가 가능하거나 유료로 진행되는 행사들이기 때문입니다. 아마 실제 내용이 나오려면 시간이 조금 걸릴 것으로 보입니다. 그래서 오늘은 대부분 추측에 의존하는 내용이 많을 수 있으니 이 점 양해 부탁드립니다.

 

앞서 포스팅해드린 내용과 같이 에프에스티는 9월 21일 ~ 25일간 SPIE 라는 행사가 진행되는데 여기서 EUV 펠리클 관련 발표를 진행할 예정이였습니다. 현재 이미 발표는 끝난 것으로 알고 있으나 유료 멤버쉽 형태로 진행되는 행사인만큼 발표자료를 무료 배포해주기까지는 시간이 조금 걸릴 듯 합니다. 구매를 할 순 있으나... 자금이 없어서유 ㅠ

 

[기업 살펴보기] 2분기 실적 리뷰 - 에프에스티 반도체 EUV 펠리클 소재 관련주 대장주 SPIE 컨퍼런�

포스팅 내용 읽으시기 전에 구독은 필수이며 사랑입니다! 간단한 클릭 한번이면 가능하니 부탁드립니다! >> 클릭으로 블로그 구독하기 << 안녕하세요. 또바기쓰입니다. 오늘 살펴볼 내용은 바로

thoughtcomestrue.tistory.com

발표 내용은 SiN(실리콘니트라이드)라는 물질을 이용해 더 얇은 보호막 층을 형성해 EUV 투과율을 높일 수 있다는 결과를 어느정도 얻어낸 것으로 보입니다. 자세한 내용을 더 알고 싶은데 배포가 언제 될런지 너무 기대가 됩니다,,

 

아래는 에프에스티가 매년 참여하고 있는 EUV 관련 컨퍼런스들입니다. 참고하실겸 링크 남겨드립니다.

 

Home - EUV Litho, Inc.

Promoting EUV Lithography via Workshops, Consulting & Education

euvlitho.com

 

테크위크 2020 LIVE - '소부장 강국' 기술에 길을 묻다

전자신문 정보사업국

www.sek.co.kr

 

Study on the multi layers for EUV pellicle

Author Affiliations + Sangjin Cho,1 Kyeongwon Seo,1 Kyoungsoo Kim,1 Lan Yu,1 Seong-yong Moon1 1Fine Semitech Co., Ltd. (Korea, Republic of)

www.spiedigitallibrary.org

앞서 포스팅 제목에 제가 왜 EUV 펠리클 국산화가 머지 않았냐고 언급했는지에 대해서 본격적으로 해석해보겠습니다. 단순 어그로가 아니라 10월 중순경에 개최될 SMC라는 반도체 관련 컨퍼런스 초안이 나왔는데 FST측에서 발표할 내용에 대한 부분이 상당히 흥미롭습니다.

 

아래에서 보시는 바와 같이 진행 일정은 10월 19일 ~ 20일이 될 것이구요. 발표자는 에프에스티의 수석 문성용 부사장이란 분입니다. 제목보시면 투자자분들이 가장 기다리고 계시는 소식이죠? "EUV 펠리클 개발 현황"입니다.

 

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에프에스티 SMC 발표 예정인 문성용 부사장

 

자 그럼 본격적으로 초안이 어떻게 나와있는지 하나 하나 잘 살펴보도록 하겠습니다. 아래 내용도 당연히 초안이기 때문에 세부 디테일 내용은 발표 후에 시간이 좀 지나야 자세히 살펴볼 수 있을 것 같습니다. 마찬가지로 유료 멤버쉽 컨퍼런스이기 때문입니다.

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2020 SMC 에프에스티 발표 초안

귀찮아하실 여러분들을 위해 위 내용은 요약하면 아래와 같습니다.

1. 포토마스크 표면 보호를 위한 펠리클은 반도체 공정 과정에서 오염을 방지하기 위해 필요하다. (당연한 설명)

-> 이미 다들 알고 계시죠?

 

2. 광학용 공정을 베이스로 할 시에는 투과율이 좋은 아르곤불화(ArF), 크립톤불화(KrF) 등을 이용하여 온도 안정성을 잡을 수 있어 진행해왔습니다. 하지만, EUV 펠리클에는 기존 물질들로는 공정 만족도를 충족시킬 수 없어 별도의 새로운 물질이 필요했습니다. (이것도 이미 대부분 아실 만한 내용)

-> 당연히 별도 물질이 필요하니 연구 개발에 애를 먹는거겠죠..?

 

3. EUV 펠리클에 적합한 물질을 찾기 위해 연구하던 중 실리콘을 베이스로 하는 물질들(p-Si, c-Si, SiN, SiC, 그래핀, CNT)이 EUV 광원의 온도를 잘 견디며 식각 등과 같은 반도체 공정에서 긍정적인 결과를 보여주고 있다는 것을 찾았습니다.

-> 실리콘 베이스로 하는 물질이 EUV 펠리클 완성에 있어 도움을 줄 수 있는 소재로 낙찰된 듯 합니다.

 

4. 에프에스티는 현재 EUV 마스크에 펠리클을 증착 및 분리하기 위한 장비를 개발하고 있을 뿐만 아니라 EUV 펠리클용 박막 또한 연구개발중에 있습니다.

-> 앞서 개발현황 다루는 포스팅에서 이미 다 안내해드린 내용입니다. EUV 펠리클 뿐만 아니라 전반적인 공정에 필요한 장비까지 모두 개발하고 있는 과정에 있습니다.

 

5. 이에 더해 에프에스티는 2019년에 EUV 마스크와 펠리클에 적합한 개념 설계 및 검사 능력에 대한 가능성 검토를 모두 마쳤으며 현재 이러한 것들을 적용시키면서 더 최적화시킬 수 있는지에 대한 연구를 진행중입니다.

 

6. 하나 더 보태자면 에프에스티는 "EUV 광원을 자체 생산하고 연구 개발"할 수 있는 유일한 기업입니다. 이를 바탕으로 조금 더 원활한 연구 개발이 가능합니다.

 

7. 이번 발표에서 에프에스티는 EUV 마스크를 생산하는 기업들에게는 그들의 마스크에 EUV 펠리클을 적용하는 것을 가능케 해주며 파운드리 고객들에게는 그들의 EUV 마스크가 오염되는 것을 걱정할 필요없이 웨이퍼 투입 및 생산하는 것을 가능하게 해 줄 수 있는 펠리클 개발 현황을 알려드릴 예정입니다.

-> 이 부분이 가장 핵심입니다. 에스앤에스텍이 펠리클 양산 시점을 기정 사실화하면서 발표했듯이 에프에스티도 꽤 높은 자신감이 담긴 어조로 표현돼있습니다. EUV 펠리클 개발 진행이 굉장히 원활하게 되고 있고 곧 완성될터이니 고객사분들께서는 이제 염려치마시고 EUV 포토마스크 및 반도체 생산 가즈아아아아 라고 외치고 있네요.

 

오랜 기간 2만원 초중반대에서 갇혀있는 에프에스티인데 10월 SMC 컨퍼런스를 계기로 조금은 다시 우상향으로 방향을 잡으며 갈 수 있기를 기대해봅니다.

 

에스앤에스텍도 이번 EUV 컨퍼런스 행사에서 실리콘을 기반으로한 EUV 펠리클 양산을 내년 1분기에 진행하겠다라고 공식 발표했는데요. 실리콘 기반이면 에프에스티랑 겹치는 것 아니야? 기술적으로 소송 문제 없나? 라는 혹시 모를 우려를 하실 수도 있는데요. 두 기업 모두 한양대 안진호 교수님과 협업중에 있으며 실리콘 베이스 물질 관련해서 제가 알기론 이 교수님께서 모두 특허를 가지고 계시기때문에 문제가 되지 않을 것으로 보입니다.

 

두 기업 모두 승승장구 하는 모습을 보니 한국의 반도체 미래가 더더욱 밝아보이네요. 주가는 하락세를 맞이하며 약간의 흘러내림?을 경험하고 있지만 인내 끝에 달콤한 상승이 찾아올 것이니 모두 힘내시기 바랍니다.

 

에스앤에스텍, 4분기 1세대 실리콘 기반 EUV 펠리클 출시 공식화 - 전자부품 전문 미디어 디일렉

에스앤에스텍이 실리콘(Si) 기반 극자외선(EUV) 노광 공정용 펠리클(Pelicle) 출시를 공식화했다.에스앤에스텍은 15일 한양대 EUV-IUCC(Inddustry-University Cooperation Center)와 미국 EUV리소inc가 공동 주최...

www.thelec.kr

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